Каталог товаров Русский
RUB
%
  • Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  Обустройство
  • Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  Обустройство
  • Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  Обустройство
  • Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  Обустройство
  • Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  Обустройство

Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon Обустройство - купить

Специальная цена от US $61.70 руб.*

 
 

Категория товара: Pump Replacement Parts

Наличие: На складе


История изменения цены

*Внимание! Указанная цена US $61.70 уже могла изменится, перед тем как купить данный товар перейдите на страницу продавца и проверьте актуальную стоимость.

Месяц Мин. Макс. Цена
13.05.2026 77.96 79.30 78 руб.
13.04.2026 63.5 64.34 63.5 руб.
13.03.2026 76.0 78.38 77 руб.
13.02.2026 76.92 78.51 77 руб.
13.01.2026 60.56 61.1 60.5 руб.
13.12.2025 74.57 75.42 74.5 руб.
13.11.2025 74.7 75.25 74.5 руб.
13.10.2025 73.56 74.64 73.5 руб.

Купить Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon | Обустройство

Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  ОбустройствоDouble polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  ОбустройствоDouble polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  ОбустройствоDouble polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  ОбустройствоDouble polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon  Обустройство

Specifications:

1. Material: High purity silicon

2. Diameter: 152.4mm

3.  Thickness:0.7mm

4. Resistivity: 0.0001-100W

5. Orientation: <111>, <100>, <110>

6. Polish: Double polished

7. Planeness:  <1 micrometer

8. Main application: Substrate for PVD/CVD coating film/ Experimental sample carrier/ Substrate for molecular-beam epitaxy

Products can be customized. If you want this service, please contact us.

Please contact us before purchase to confirm the availability quantities of goods in stock.

12345

Отзывы о Double polished monocrystalline Si substrate 152.4*0.7mm /epitaxial wafer /Resistivity optional/High purity silicon Обустройство

Здесь вы можете оставить свой отзыв о данном товаре.

Оставьте свой отзыв
1. Укажаите имя и нажмите Войти

Войти
Отзывы ( 0 )

Сначала новые
Сначала старые
Сначала лучшие

Отправить
Загрузить
Сообщение:
Отправить
Загрузить
1.9579 сек.